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DaLI高精度无掩膜纳米光刻机发布

发布时间:2017-02-07


近日,重组后的miDALIX d.o.o. 发布了最新款光刻机DaLI-A。DaLI-A相比原型号Proto Laser LDI,在固件和软件上均做了升级,产品的性能更稳定、技术更先进、应用表现更优异。


DaLI-A产品外观图

DaLI-A是一台桌面化的小型设备,占地小;软件自动化控制,用户操作省心便捷。


DaLI无掩膜纳米光刻机采用了超越光刻技术极限的亚纳米级AOD激光操控技术,光斑定位精度可达0.1nm。


DaLI拥有的整机恒温系统,控温精度可达±0.1℃,这将设备所有部件的温差形变和热漂移降到最低,从而实现真正的高精度光刻。


DaLI无掩膜纳米光刻机适用的光刻胶种类很多,如各种I线光刻胶:AZ系列正胶、SU-8系列负胶等。无论厚胶还是薄胶,DaLI在应用中都能表现出色。


目前,DaLI-A应用的领域有:微机电系统加工、微流控芯片制作、微纳器件加工、光学微透镜与光波导加工、原型机设计以及构建其他特殊结构等等。

如需了解更多产品详情,请联系我们。


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